日前,Intel公司与Corning公司已经达成了一份开发超低散热膨胀物——ULE玻璃制图片罩材料的协议,这是为了满足Extreme Ultraviolet (EUV)平板印刷技术的需要而进行的一项开发。 这些材料被拿来进行低瑕疵率EUV图片罩的开发,通过利用EUV平板印刷技术,能生产出32纳米节点的大容量产品。
平板印刷工具被用于芯片生产中,它所做的工作就是在一块硅晶片上“印制图案”。今天,工业界使用的平板印刷工具已经可以利用一种193纳米长的光波在50纳米的节点上去“印制晶体管”。这就好比一个画家正试图用一把大刷子来画一些非常纤细的线条一样。目前着手开发的EUV平板印刷技术将使用的光波仅有13.5纳米长,因此它能提供给芯片制造商们一把非常“纤细”的刷子,以便他们在未来“绘制”出更微型的晶体管。
EUV平板印刷技术已经得到国际半导体技术Roadmap的认证,它继当代193纳米平板印刷工具之后,将成为下一代平板印刷工具的领先技术。
Intel平板印刷技术总管Janice Golda说:“EUV技术用于商业生产的关键问题是如何降低EUV图形罩的瑕疵率。目前,Corning和Intel公司正计划研制这种面罩的基础材料。相信随着这种高质量EUV面罩的开发成功,加上Intel在光材料、平板印刷设备和新型底片方面相关联的一些成果,将更加有助于EUV平板印刷技术成为未来的一种核心技术,以此迎合厂家的基础需求。
这个联合开发项目将有助于采用EUV技术的芯片生产能够从2009年开始顺利进行。(第三媒体 2005-07-11)